Российские инженеры разработали установку для плазмохимического осаждения (ПХО) на кремниевых пластинах диаметром 300 мм. Опытный образец создан в Научно-исследовательском институте точного машиностроения (НИИТМ), входящем в группу компаний «Элемент».

ПХО — один из ключевых процессов в производстве микросхем. До недавнего времени такие установки поставлялись исключительно из-за рубежа, однако теперь у России появилась возможность производить их самостоятельно. Это важный шаг в укреплении технологического суверенитета страны.

По словам начальника отдела перспективных разработок НИИТМ Георгия Ерицяна, новая установка может работать не только с 300-миллиметровыми пластинами, но и адаптироваться для обработки 200-миллиметровых. Это позволит предприятиям тестировать ее на уже существующих технологических процессах и постепенно переходить на работу с пластинами большего размера.

Разработчикам удалось в короткие сроки локализовать производство всех компонентов оборудования. При этом технологические параметры установки соответствуют мировым стандартам и не уступают зарубежным аналогам.

Источник: https://www.ferra.ru/news/v-rossii/v-rossii-sozdali-ustanovku-dlya-proizvodstva-mikroskhem-20-03-2025.htm?utm_source=yxnews&utm_medium=desktop&utm_referrer=https%3A%2F%2Fdzen.ru%2Fnews%2Fstory%2F5e6473d7-e4aa-581f-99fd-0625bdb20176